52. 裂纹在沿晶氧化膜内形核的应力腐蚀新机理(51171024) | |
课题负责人: | 李金许 |
课题参加人: | 褚武扬等 |
课题来源: | 国家自然科学基金――面上项目 |
项目分类: | 国家自然科学基金 |
合同总额: | 55万元 |
起止时间: | 2012-2015 |
项目内容: | 通过透射电镜和扫描电镜原位观察,结合电子背散射或衍射衬度层析成像等技术,证明黄铜在氨水、不锈钢在MgCl2溶液或高温高压水中等阳极溶解型应力腐蚀开裂先形成沿晶氧化膜或腐蚀产物膜,并产生膜致应力。当膜致应力或膜致应力与外应力之和等于或大于临界值时,就会引起氧化膜局部开裂;应力腐蚀裂纹在氧化膜内形核后会使其周围的应力松弛;随氧化膜不断生长,膜致应力又增大,新的微裂纹在氧化膜内又形核,并和原裂纹连接;而在氧化膜外则不存在裂纹。通过EBSD或DCT等技术确定SCC时什么晶界开裂,什么晶界不开裂。通过模拟计算并结合试验数据,获得定量的膜致应力及其分布,从而在微观上确认膜致应力与晶界开裂的关系,确定膜致应力在应力腐蚀中的作用。 |